请选择 进入手机版 | 继续访问电脑版

345IC论坛

 找回密码
 注册

扫一扫,访问微社区

QQ登录

只需一步,快速开始

查看: 5386|回复: 0

[ic基础] ic晶圆是怎么做成的

[复制链接]

该用户从未签到

32

主题

37

帖子

51

积分

Lv.1柜台跑腿

元气值
112
打赏值
0
金币
24 枚
最后登录
2017-5-6
微信:
发表于 2017-4-21 16:43:07 | 显示全部楼层 |阅读模式
手机扫一扫看帖
Intel版:

第一阶段
1. 沙子:硅是地壳内第二丰富的元素,而脱氧后的沙子(尤其是石英)最多包含25%的硅元素,以二氧化硅(SiO2)的形式存在,这也是半导体制造产业的基础。
8839164084_TIME_1309832089194.jpg


2. 硅熔炼:12英寸/300毫米晶圆级,下同。通过多步净化得到可用于半导体制造质量的硅,学名电子级硅(EGS),平均每一百万个硅原子中最多只有一个杂质原子。此图展示了是如何通过硅净化熔炼得到大晶体的,最后得到的就是硅锭(Ingot)。
8839164084_TIME_1309832141800.jpg


3.单晶硅锭:整体基本呈圆柱形,重约100千克,硅纯度99.9999%。
8839164084_TIME_1309832193683.jpg


第二阶段
4. 硅锭切割:横向切割成圆形的单个硅片,也就是我们常说的晶圆(Wafer)。顺便说,这下知道为什么晶圆都是圆形的了吧?
8839164084_TIME_1309832209475.jpg


5. 晶圆:切割出的晶圆经过抛光后变得几乎完美无瑕,表面甚至可以当镜子。事实上,Intel自己并不生产这种晶圆,而是从第三方半导体企业那里直接购买成品,然后利用自己的生产线进一步加工,比如现在主流的45nm HKMG(高K金属栅极)。值得一提的是,Intel公司创立之初使用的晶圆尺寸只有2英寸/50毫米。
8839164084_TIME_1309832220276.jpg


第三阶段
6. 光刻胶(Photo Resist):图中蓝色部分就是在晶圆旋转过程中浇上去的光刻胶液体,类似制作传统胶片的那种。晶圆旋转可以让光刻胶铺的非常薄、非常平。
8839164084_TIME_1309832231026.jpg


光刻一:光刻胶层随后透过掩模(Mask)被曝光在紫外线(UV)之下,变得可溶,期间发生的化学反应类似按下机械相机快门那一刻胶片的变化。掩模上印着预先设计好的电路图案,紫外线透过它照在光刻胶层上,就会形成微处理器的每一层电路图案。一般来说,在晶圆上得到的电路图案是掩模上图案的四分之一。
8839164084_TIME_1309832240305.jpg


光刻二:由此进入50-200纳米尺寸的晶体管级别。一块晶圆上可以切割出数百个处理器,不过从这里开始把视野缩小到其中一个上,展示如何制作晶体管等部件。晶体管相当于开关,控制着电流的方向。现在的晶体管已经如此之小,一个针头上就能放下大约3000万个。
8839164084_TIME_1309832250305.jpg


第四阶段
7. 溶解光刻胶:光刻过程中曝光在紫外线下的光刻胶被溶解掉,清除后留下的图案和掩模上的一致。
8839164084_TIME_1309832259314.jpg


8. 蚀刻:使用化学物质溶解掉暴露出来的晶圆部分,而剩下的光刻胶保护着不应该蚀刻的部分。
8839164084_TIME_1309832267931.jpg


9. 清除光刻胶:蚀刻完成后,光刻胶的使命宣告完成,全部清除后就可以看到设计好的电路图案。
8839164084_TIME_1309832630440.jpg


第五阶段
10. 光刻胶:再次浇上光刻胶(蓝色部分),然后光刻,并洗掉曝光的部分,剩下的光刻胶还是用来保护不会离子注入的那部分材料。
8839164084_TIME_1309832642888.jpg


11. 离子注入(Ion Implantation):在真空系统中,用经过加速的、要掺杂的原子的离子照射(注入)固体材料,从而在被注入的区域形成特殊的注入层,并改变这些区域的硅的导电性。经过电场加速后,注入的离子流的速度可以超过30万千米每小时。
8839164084_TIME_1309832675871.jpg


12. 清除光刻胶:离子注入完成后,光刻胶也被清除,而注入区域(绿色部分)也已掺杂,注入了不同的原子。注意这时候的绿色和之前已经有所不同。
8839164084_TIME_1309832829647.jpg


第六阶段
13. 晶体管就绪:至此,晶体管已经基本完成。在绝缘材(品红色)上蚀刻出三个孔洞,并填充铜,以便和其它晶体管互连。
8839164084_TIME_1309832838454.jpg


14.电镀:在晶圆上电镀一层硫酸铜,将铜离子沉淀到晶体管上。铜离子会从正极(阳极)走向负极(阴极)。
8839164084_TIME_1309832847700.jpg


15. 铜层:电镀完成后,铜离子沉积在晶圆表面,形成一个薄薄的铜层。
8839164084_TIME_1309832857327.jpg


第七阶段
16.抛光:将多余的铜抛光掉,也就是磨光晶圆表面。
8839164084_TIME_1309832866529.jpg


18. 金属层:晶体管级别,六个晶体管的组合,大约500纳米。在不同晶体管之间形成复合互连金属层,具体布局取决于相应处理器所需要的不同功能性。芯片表面看起来异常平滑,但事实上可能包含20多层复杂的电路,放大之后可以看到极其复杂的电路网络,形如未来派的多层高速公路系统。
8839164084_TIME_1309833387802.jpg


第八阶段
19. 晶圆测试:内核级别,大约10毫米/0.5英寸。图中是晶圆的局部,正在接受第一次功能性测试,使用参考电路图案和每一块芯片进行对比。
8839164084_TIME_1309833404319.jpg


20. 晶圆切片(Slicing):晶圆级别,300毫米/12英寸。将晶圆切割成块,每一块就是一个处理器的内核(Die)。
8839164084_TIME_1309833417224.jpg


21. 丢弃瑕疵内核:晶圆级别。测试过程中发现的有瑕疵的内核被抛弃,留下完好的准备进入下一步。
8839164084_TIME_1309833430574.jpg



第九阶段
22. 单个内核:内核级别。从晶圆上切割下来的单个内核,这里展示的是Core i7的核心。
8839164084_TIME_1309833442046.jpg


23.封装:封装级别,20毫米/1英寸。衬底(基片)、内核、散热片堆叠在一起,就形成了我们看到的处理器的样子。衬底(绿色)相当于一个底座,并为处理器内核提供电气与机械界面,便于与PC系统的其它部分交互。散热片(银色)就是负责内核散热的了。
8839164084_TIME_1309833453923.jpg


24. 处理器:至此就得到完整的处理器了(这里是一颗Core i7)。这种在世界上最干净的房间里制造出来的最复杂的产品实际上是经过数百个步骤得来的,这里只是展示了其中的一些关键步骤。

第十阶段

25. 等级测试:最后一次测试,可以鉴别出每一颗处理器的关键特性,比如最高频率、功耗、发热量等,并决定处理器的等级,比如适合做成最高端的Core i7-975 Extreme,还是低端型号Core i7-920。
8839164084_TIME_1309834157309.jpg


26. 装箱:根据等级测试结果将同样级别的处理器放在一起装运。
8839164084_TIME_1309834169409.jpg


27. 零售包装:制造、测试完毕的处理器要么批量交付给OEM厂商,要么放在包装盒里进入零售市场。这里还是以Core i7为例。
8839164084_TIME_1309834179991.jpg
*滑动验证:
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

【公司宣传 名片册】345IC企业目录,免费发布,资源共享!
推荐分销商名称及主营品牌等
企业网站
联络人、手机、电话、邮件等
[目录分销商] 深圳市任一明电子有限公司
主营:TI ST MICRON MPS CIRRUS MICROCHIP
rym888 QQ咨询日期:2019-5-7
电话:13631524708
[贸易分销商] 深圳市恒伟创科技有限公司
主营:电阻电容电感,二三极管,LED,集成电路,单片机,IC等电子元器件
wx_AZI1APcV QQ咨询日期:2018-9-13
电话:0755-83557796
关闭

站长推荐上一条 /1 下一条

QQ|小黑屋|手机版|Archiver|345ic特价网  

GMT+8, 2020-3-30 05:03 , Processed in 0.557936 second(s), 46 queries .

Powered by Discuz! X3.2

© 2001-2013 Comsenz Inc.

快速回复 返回顶部 返回列表